JSR株式会社

JSR株式会社は、1957年に設立され、東京に本社を置く、極端紫外線（EUV）リソグラフィー向け最先端フォトレジストの世界有数のサプライヤーです。半導体材料スタックの中で最も技術的に要求の厳しい層において支配的な存在であるJSRのEUVフォトレジストは、TSMC、サムスン、インテルをはじめ、最先端プロセスノードを追求するすべての主要半導体メーカーにおける、7nm未満のロジックチップや先端DRAMの製造に不可欠な消耗品です。2025年度、同社は4,050億円の売上高を計上し、7,645名の従業員を擁し、戦略的に多様化されたグローバルフットプリントとして56の製造・研究開発拠点（国内15拠点、海外41拠点）を運営しています。企業にとって画期的な出来事として、2024年、JSRは株式会社日本産業投資（JICC）により、約1兆円と評価される画期的な取引で非公開化されました。これは、国家経済の安全保障に不可欠な半導体材料に対する国内の支配権を保護するという日本政府の戦略的決意を反映しています。現在、JSRは売上高の70%以上を海外顧客から得ており、半導体フォトレジスト技術における日本の「ナショナルチャンピオン」として広く認識されています。

強み：
• 日本の国家的支援を受けた、EUVフォトレジストにおける比類なきグローバルリーダーシップ： JSRは、半導体製造において最も技術的に要求の厳しい化学処方であるEUVフォトレジストで最高の市場シェアを誇り、2024年のJICCによる非公開化により、前例のない財務リソースと政府の支援を得て、あらゆる競合他社に対してこのリーダーシップの地位を守り、拡大することが可能となりました。
• 圧倒的な海外売上高比率を伴うグローバルな製造フットプリント： 56拠点中41拠点が日本国外にあり、売上高の70%以上を海外顧客から得ているJSRは、半導体メーカーがサプライチェーンの回復力のためにますます求める地理的多様性と顧客との近接性を備えています。
• 70年にわたる高分子化学の研究開発が生み出す、乗り越えられないIPの堀： 1957年以来、JSRはフォトレジスト化学、高分子合成、リソグラフィー材料処方において、世界でも有数の深い特許ポートフォリオを蓄積してきました。この知的財産は、競合他社が数十年にわたる並行投資なしには再現できません。
• JICCによる非公開化が可能にした長期的な戦略的投資期間： 非公開企業として四半期ごとの収益プレッシャーから解放されたJSRは、より短い投資期間を持つ上場競合他社が株主に正当化できない、数十年単位の研究開発プログラムや設備投資を追求することができます。
弱み：
• フォトレジスト収益へのほぼ全面的な依存が生む単一技術リスク： エラストマー、プラスチック、ライフサイエンスへの多角化にもかかわらず、JSRの戦略的価値と成長のストーリーは半導体フォトレジストに圧倒的に依存しており、ウェハあたりのフォトレジスト消費量を削減するリソグラフィー技術における破壊的な変化に対して脆弱です。
• 非公開化後のガバナンスの不透明性と市場規律の低下： JICCのポートフォリオ企業として、JSRは上場企業に課される透明性要件、株主への説明責任、資本配分の規律に直面しなくなり、長期的に戦略の迷走や非効率な投資を可能にする可能性があります。